Csipke mintás Maszk - PatentDuo
Termékleírás
Több mint 10 éves szakmai tapasztalattal kollekcióik tervezésekor különösen nagy gondot fordítanak az anyag kiválasztására, az ergonomikus tervezésre. A minták speciális bőrbarát, vizesbázisú, környezet kímélő eljárással kerülnek az anyag külső felületére, ezért érzékeny bőrűek számára is bátran ajánlott a viselete. A PATENDUO egyedileg tervezett mintáival biztosan nem fogsz más kollekciókban találkozni! Tudj meg többet róluk: www.patentduo.hu PatentDuo - yoga and running "Special design for unique people"
↓ Több részlet... ↓